预处理的作用是对原水进行粗加工。提供符合RO进水要求的给水。其主要用来去除原水中的悬浮物、胶体，使SDI≤4;去除游离氯等氧化性物质;去除部分有机物;降低LSI，避免碳酸盐结垢。
在超纯水製造工艺中，传统预处理方式是“多介质过滤器+活性炭过滤器”。而该半导体製造厂採用了“粗过滤器+超滤装置”作为超纯水系统的预处理部分.主要原因如下：
(1)传统的预处理过程中SDI值不好控制，一般>5，不利于后续的一级反渗透系统的运行;而超滤装置的出水SDI值比较稳定(≤1)，能够有效地保证一级反渗透系统的运行。
(2)传统的预处理方式占地面积大，而“粗过滤器+超滤装置”占地面积小，节约了基建费用。
(3)与传统的预处理方式在更换填料时需要大量的人力和物力相比，超滤装置的更换比较方便。
(4)近年来，由于超滤技术的不断成熟，系统能够稳定安全地运行，而且超滤膜的价格也有了大幅度的降低，在一次性投资和运行维护费用上跟传统的预处理方式相比差不多。
1、半导体及电子行业-超纯水
2、生物及製药行业-纯化水
3、发电厂-锅炉补给水
4、表面涂装
5、消费吕及化妆品行业
6、代替各类蒸馏水
7、其它对水的纯度要求高的行业
EDI(Eiecterodeionization)又称连续电除盐技术，是国际上二十世纪九十年代逐渐兴起的纯水处理技术，它科学地将电渗析技术和离子交换技术融为一体。
通过阳、阴离子膜对阳、阴离子的选择透过作用与离子交换树脂对水中离子交换的作用，在电场的作用下实现水中离子的定向移动，从而达到水的深度净化除盐，并通过水电解产生的氧离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生。
所以EDI整个制水过程不需酸、硷化学药品再生而连续製取高品质超纯水，它具有先进技术、结构合理、操作简便的优点是绿色环保产品，可广泛套用于电力、电子、医药、化工、电度和食品等，是水处理最先进设备。

在半导体行业中，反渗透部分多採用双级反渗透工艺。以确保后续工艺的安全性。通过双级反渗透，可去除水中超过99%的悬浮物、胶体，98%以上的溶解盐，大部分的微生物、TOC和部分CO。该半导体製造厂也採用双级反渗透工艺，同时将双级反渗透拆分成两个独立的部分，这样就更加有效地保证了系统的连续运行。即使在更换反渗透膜或线上清洗反渗透膜时.也不会造成整个工厂大面积的停水，确保了关键部位的连续用水。该半导体厂採取在一级反渗透前增加SBS、MDC加药装置。保证了一级反渗透系统的安全运行：在一级反渗透和二级反渗透之间增加一套加硷装置，可提高二级反渗透系统的脱盐率。

对反渗透出水进行深度脱盐。最终产水的电阻率能>15MQ·cm。目前市场上比较常用的电去离子深度除盐装置模组有两种类型，分别为EDI模组和CEDI模组。该半导体製造厂採用CEDI模组，同时将CEDI模组分成独立的两个部分，在清洗CEDI模组或更换CEDI模组时可以分组进行，不会造成大面积的停水，确保了关键部位的连续用水。

由于半导体製造行业对超纯水的水质要求很高，故在纯水箱后输送管道上增加抛光混床，可保证超纯水系统产水的稳定性和一致性。实际套用中基本都是採用双级抛光混床。